2026年6月，高精度微纳3D打印领域的全球领导者Nanoscribe宣布扩大其五种最受欢迎光敏树脂（光刻胶）的制造能力。这一举措直接源于工业领域对微纳3D打印需求的高速增长——在过去一年中，Nanoscribe售出的每三套系统中就有一套销往工业领域，特别是在光电子封装和光学制造等精密制造场景中，Nanoscribe的双光子聚合（2PP）3D打印技术正从研究工具演变为真正的工业制造手段。
五种关键光刻胶的产能扩张
此次产能扩张涉及Nanoscribe产品线上五种使用最广泛的光刻胶：IP-Dip2、IP-S、IPX-Q、IPX-S和IPX-Clear。这些材料的名称、化学成分、材料处理方式和打印参数均保持不变，确保现有客户的工作流程不受任何影响。IP-Dip2是Nanoscribe最经典的浸入式光刻胶，专为超高分辨率打印设计，能够实现亚100纳米级别的打印精度；IP-S是一种低收缩率的结构性光刻胶，特别适合打印需要高尺寸精度的微结构器件；IPX系列则是面向特定工业应用的功能性光刻胶——IPX-Q具有优异的耐热性能，IPX-S提供更高的机械强度，IPX-Clear则在光学透明度方面达到了最优水平。每一种材料都针对特定的微纳制造应用场景进行了优化，覆盖了从微光学元件到微流控芯片、从光子学封装到生物MEMS器件的广泛需求。
工业级品质保障：分析证书（CoA）新服务
与产能扩张同步推出的还有一项重要的品质管理创新：对于需要批次可追溯性的客户，Nanoscribe可根据要求提供分析证书（Certificate of Analysis, CoA）服务。这些证书由独立的外部第三方检测机构进行测量和认证，详细记录每批次光刻胶的关键性能指标，包括粘度、固化深度、聚合收缩率、光学透过率和杂质含量等参数。分析证书对于工业客户的采购和内部质量管理具有不可替代的价值：在航空航天、医疗和半导体等受到严格监管的行业中，原材料批次的一致性和可追溯性是合规生产的基本要求。Nanoscribe材料负责人Dr. Alexander Quick在公告中表示，此次产能扩张和CoA服务的推出，标志着Nanoscribe在支持工业级材料质量的同时，保持了材料特性的稳定性和既定的客户工作流程——这种在创新与稳定之间的精妙平衡，正是工业客户最为看重的品质。
微纳3D打印的工业应用浪潮
Nanoscribe光刻胶产能扩张的背后，是微纳3D打印技术在工业领域应用场景的快速拓展。在光电子封装领域，微纳3D打印被用于制造光纤连接器中的精密对准结构、激光器中的微透镜阵列以及光电模组中的光学隔离器支架。在光学制造领域，2PP技术能够直接打印出具有自由曲面几何形状的微透镜、衍射光学元件和波导结构，传统研磨抛光工艺无法实现的复杂光学表面在微纳3D打印面前成为可能。在半导体制造的探针卡和测试治具领域，微纳3D打印提供的设计自由度和精度满足了先进制程芯片测试的严苛要求。在医疗器械领域，微纳3D打印已被用于制造微针阵列、药物递送微器件和细胞培养支架。随着这些工业应用的加速成熟，对高品质光刻胶材料的稳定供应需求正在快速增长。
全球微纳3D打印材料市场展望
Nanoscribe的产能扩张反映了全球微纳3D打印材料市场的快速增长趋势。根据行业研究数据，全球微纳3D打印材料市场2025年规模约为3.2亿美元，预计到2030年将增长至8.5亿美元，年复合增长率约为21%。在这个市场中，Nanoscribe凭借其双光子聚合（2PP）技术的先发优势和材料生态的完整性，占据了最大的市场份额。然而，竞争也在加剧——UpNano、Microlight3D和奥地利微电子研究所等竞争对手也在推出各自的微纳3D打印材料和系统。Nanoscribe此次大幅度扩产，不仅是为了满足已经爆发的市场需求，更是在激烈的市场竞争中巩固自身材料生态壁垒的战略举措。随着更多工业用户加入到微纳3D打印的应用大军中，材料供应能力和品质保障水平将成为决定行业竞争格局的关键因素。
来源：3DPrint.com、Nanoscribe官方、光学制造技术杂志